Alphachron He 氦同(tong)位素(su)定(ding)年(nian)四(si)極桿質譜(pu)儀(yi)基(ji)於LabView的功能(neng)的可(ke)視軟(ruan)件(jian)包允(yun)許用(yong)戶(hu)創建和調(tiao)整系統(tong)實驗的操(cao)作(zuo)順(shun)序(xu)，而(er)無(wu)需任何(he)先前的編(bian)程(cheng)知(zhi)識(shi)，帶(dai)有(you)Windows計(ji)算(suan)機的計(ji)算(suan)機系(xi)統(tong)，該(gai)計(ji)算(suan)機與Alphachron數(shu)字I / O系(xi)統

Alphachron He 激(ji)光剝(bo)蝕氦提(ti)取分(fen)析(xi)系(xi)統(tong)可(ke)幫助用(yong)戶(hu)使用(yong)簡(jian)單的文(wen)本(ben)文(wen)件(jian)管理(li)實驗，在對(dui)礦(kuang)石(shi)系統(tong)的4D演(yan)化(hua)進(jin)行研(yan)究的過(guo)程中(zhong)，發現(xian)有(you)必(bi)要(yao)開發用(yong)於快速自動分(fen)析(xi)礦(kuang)物(wu)樣品(pin)的儀(yi)器(qi)，通過(guo)激(ji)光或(huo)石(shi)英-豪洛根加熱提(ti)取氦氣(qi)後(hou)，母(mu)體礦(kuang)物(wu)質濃度(du)隨後通過(guo)樣品(pin)的ICP-MS分(fen)析(xi)確(que)定。

Alphachron He 氦氣(qi)自動原(yuan)位提(ti)取與分(fen)析(xi)儀(yi)而(er)無(wu)需任何(he)先前的編(bian)程(cheng)知(zhi)識(shi)，高(gao)真空(kong)系統(tong)，由幹式隔(ge)膜前級(ji)泵(beng)，帶(dai)控(kong)制器(qi)的混合渦(wo)輪泵(beng)和帶(dai)控(kong)制器(qi)的離(li)子(zi)泵(beng)組(zu)成(cheng)，用(yong)於激(ji)光自動化(hua)，

RESOlution 激(ji)光微(wei)區原(yuan)位同(tong)位素(su)分(fen)析(xi)與定(ding)年(nian)系統豐(feng)富的樣品(pin)圖像和自動馬賽克(ke)收(shou)集將(jiang)確(que)保您始終選擇正確(que)的顆 粒、相位或(huo)生(sheng)長(chang)環(huan)帶(dai)進(jin)行剝(bo)蝕

RESOlution 全(quan)自動激(ji)光剝(bo)蝕進樣系(xi)統(tong)激(ji)光剝(bo)蝕樣品(pin)池(chi)具有(you)與早期的M50A樣品(pin)池(chi)相(xiang)同(tong)的優(you)異(yi)功能(neng)，同(tong)時(shi)具有(you)超過(guo)六倍(bei)的可(ke)及(ji)面(mian)積(ji)，S155樣品(pin)池(chi)附帶(dai)三個樣品(pin)支架(jia)。這三個支架(jia)可以從(cong)通用(yong)支架(jia)，全(quan)薄(bo)片支架(jia)，全(quan)圓(yuan)形(xing)樣品(pin)靶(ba)支架(jia)以及(ji)薄(bo)片(pian)和圓形(xing)樣品(pin)靶(ba)組(zu)合(he)支架(jia)中(zhong)根(gen)據需(xu)要(yao)選擇

RESOlution 激(ji)光剝(bo)蝕系統(tong)193nm準(zhun)分(fen)子(zi)激(ji)光剝(bo)蝕系統(tong)擁(yong)有(you)完善(shan)的設(she)計(ji)，使用(yong)電動離(li)軸(zhou)觀(guan)察系(xi)統和(he)高(gao)分(fen)辨(bian)率(lv)相機對(dui)樣品(pin)池(chi)中(zhong)的樣品(pin)進(jin)行成像，豐富的樣品(pin)圖像和自動馬賽克(ke)收(shou)集將(jiang)確(que)保您始終選擇正確(que)的顆 粒、相位或(huo)生(sheng)長(chang)環(huan)帶(dai)進(jin)行剝(bo)蝕

RESOChron雙(shuang)年代(dai)測試系(xi)統激(ji)光剝(bo)蝕（U-Th）/He熱年(nian)代(dai)學(xue)可(ke)以獲得精確(que)定義的、無(wu)缺陷的晶體體積，具有(you)已知(zhi)的表(biao)面積，從(cong)而(er)克(ke)服了(le)傳(chuan)統的單(dan)顆粒晶體測量方法(fa)的兩(liang)個不確(que)定性(xing)，能夠對(dui)多個礦(kuang)物(wu)顆粒進行快速的

J200 Femto iX LA 激(ji)光燒蝕（LA）是高(gao)度(du)成(cheng)功和(he)久經考驗的J200 Femto LA儀(yi)器(qi)的下壹步發展(zhan)，J200 Femto LA儀器(qi)在(zai)世(shi)界上(shang)擁有(you)大的安(an)裝(zhuang)量，能(neng)運(yun)輸(shu)氣(qi)體控制(zhi)，自動樣品(pin)高(gao)度(du)調(tiao)節，高分(fen)辨(bian)率(lv)3D樣品(pin)臺，創新(xin)的樣品(pin)池(chi)和(he)LIBS（激(ji)光誘(you)導擊(ji)穿光(guang)譜(pu)）附加功能(neng)，飛秒可以解決(jue)LA-ICP-MS分(fen)析(xi)的LA儀(yi)器(qi)。